KARAKTERISASI HAFNIUM CARBONITRIDE HASIL PRODUKSI PLASMA NITROGEN DALAM SISTEM AC DAN DC DENGAN MESIN EDAMM

Iis Siti Aisyah

Abstract


Teknologi yang umum digunakan untuk mensintesa Hafnium Carbonitride adalah sistem Vapour Deposition, baik MOCVD (metal organic chemical vapour deposition) atau yang terbaru PACVD (plasma assisted chemical vapour deposition). Namun instalasi pada sistem ini cenderung mahal dan hasil deposit yang dihasilkan tidak homogen Studi ini mensintesa hafnium carbonitride menggunakan mesin mechanical milling yang dibantu dengan electric discharge dalam plasma nitrogen atau dikenal dengan EDAMM (electric discharge assisted mechanical milling), dimana serbuk Hf(CxNy) berhasil diproduksi. Metode experimen dilakukan dengan memvariasikan plasma nitrogen pada sistem AC dan DC, waktu milling dan jarak gap elektrode, dengan tujuan akan diperoleh data efek milling dan juga sintering, terhadap evolusi HfCN, mikrostruktur dan kekerasan berdasar nitrogen yang terjebak. Pengujian dilakukan menggunakan XRD (X-Ray Diffraction), CHN (Carbon Hidrogen Nitrogen composition), SEM (scanning electron microscopy) dan Vickers Hardness. Kekerasan diperolehsebesar 1808 HV untuk 5 menit milling, dan 2169 HV untuk 10 menit milling. Lattice strain yang tinggi menunjukkan bertambahnya kekerasan. Diperoleh mikrostruktur dengan butir kristal halus dengan kandungan nitrogen tinggi.

Full Text:

PDF

References


Jose M. Cordoba, Maria J. Sayagues, Maria D. Alcal, and F. J. Gotor, “Monophasic Nanostructured Powders of Niobium, Tantalum, and Hafnium Carbonitrides Synthesized by a Mechanically Induced Self-Propagating Reaction”, J. Am. Ceram. Soc., 90 [2] 381–387 (2007)

Aigner, W . Lengauer, D. Rafaja, P. Ettmayer, “Lattice parameters and thermal expansion of Ti(CxNa1-x), Zr(CxN1-x), Hf(CxN1-x) and TiN1-x from 298 to 1473K as investigated by hightemperature X-ray diffraction”, Journal of Alloys and Compounds, 215 (1994) 121-126

Ronghua Wei, Edward Langa, Christopher Rincon, James H. Arps, “Deposition of thick nitrides and carbonitrides for sand erosion protection”, Surface & Coatings Technology, 201 (2006) 4453 – 4459

Q. Yang , W. Lengauer , T. Koch , M. Scheerer , I. Smid “Hardness and elastic properties ofTi(CxN1-x), Zr(CxN1-x) and Hf(CxN1-x)”, Journal of Alloys and Compounds, 309 (2000) L5–L9

W. Wang, T. Nabatame, Y. Shimogaki, „Dielectric Evolution Characteristics of HfCN MetalElectrode-Gated MOS Stacks”, Journal of The Electrochemical Society, 154 .2, G25-G29, 2007




DOI: https://doi.org/10.22219/sentra.v0i1.2059

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Seketariat

Fakultas Teknik

Universitas Muhammadiyah Malang Kampus III

Jl. Raya Tlogomas 246 Malang, 65144